通過考察高純水設(shè)備（EDI）膜堆由非穩(wěn)態(tài)到穩(wěn)態(tài)的過程中濃水電導(dǎo)率的變化規(guī)律以及處于穩(wěn)態(tài)條件下的V-I特性曲線,探討高純水設(shè)備（EDI）處理過程中水解離的基本特征.研究表明,在膜堆內(nèi)部離子一旦發(fā)生定向遷移,在樹脂表面水界面層中就會形成較高的電勢梯度,引起水的解離,而且在高電流密度下,高純水設(shè)備淡室中離子交換膜表面水界面層也會發(fā)生水解離.